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METHOD OF PREPARING NANONET TRANSITION METAL DICHALCOGENIDE THIN FILM AND PHOTOTRANSISTOR INCLUDING NANONET TRANSITION METAL DICHALCOGENIDE THIN FILM THEREBY

机译:制备纳米过渡金属二氢噻吩薄膜的方法及包括纳米过渡金属二氢噻吩薄膜的光敏电阻

摘要

The present application is a step of laminating a transition metal chalcogen compound on a substrate; Laminating a protective layer on the transition metal chalcogen compound; Laminating a block copolymer on the protective layer; The block copolymer is self-assembled to form a circular nanonet structure pattern; Etching the protective layer using the patterned block copolymer as a mask; Etching the transition metal chalcogen compound using the etched protective layer as a mask; And forming a pattern of a hexagonal nanonet structure using a transition metal etchant in the etched transition metal chalcogen compound. It relates to a method of manufacturing a thin film of a nanonet transition metal chalcogen compound.
机译:本申请是在基材上层压过渡金属硫族化合物的步骤。在过渡金属硫属化合物上层压保护层;在保护层上层压嵌段共聚物;嵌段共聚物是自组装的,形成圆形的纳米网结构图案;使用图案化的嵌段共聚物作为掩模蚀刻保护层;使用蚀刻的保护层作为掩模来蚀刻过渡金属硫族化合物;并且在蚀刻的过渡金属硫属元素化合物中使用过渡金属蚀刻剂形成六边形纳米网结构的图案。本发明涉及一种制造纳米网过渡金属硫属化合物的薄膜的方法。

著录项

  • 公开/公告号KR102149891B1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利号KR20190009638

  • 发明设计人 김선국;박희경;김세환;

    申请日2019-01-25

  • 分类号H01L31/10;H01L21/3065;H01L21/3213;H01L29/06;H01L29/772;H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/18;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:03:55

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