首页> 外国专利> Process for the production of damper structures on a micromechanical wafer

Process for the production of damper structures on a micromechanical wafer

机译:在微机械晶片上生产阻尼器结构的方法

摘要

The invention relates to a method for producing damper structures on a micromechanical wafer with the following steps: (A) providing an edge adhesive film and an impression wafer with a first side with an impression structure; (B) applying the edge adhesive film to the first side of the impression wafer at a low atmospheric pressure; (C) application of the edge adhesive film to the first side of the impression wafer by increasing the atmospheric pressure; (D) filling the impression structures with an adhesive; (E) curing the adhesive to form damper structures; (F) Connect the damper structures to a second side of a micromechanical wafer.
机译:本发明涉及一种在微机械晶片上制造阻尼器结构的方法,该方法具有以下步骤:(A)提供边缘粘合膜和具有第一侧面具有压印结构的压印晶片; (B)在低气压下将边缘粘合膜施加到压印晶片的第一面上; (C)通过增加大气压将边缘粘合膜施加到压印晶片的第一面上; (D)用粘合剂填充压印结构; (E)固化粘合剂以形成阻尼器结构; (F)将阻尼器结构连接到微机械晶片的第二侧。

著录项

  • 公开/公告号DE102019205799A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ROBERT BOSCH GMBH;

    申请/专利号DE201910205799

  • 发明设计人 MICHAEL STUMBER;

    申请日2019-04-23

  • 分类号B81C1;B81B1;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 11:01:14

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号