Structure of Finnish Field Effect Transistor Construction Element (FinFET)

摘要

Halbleitervorrichtungsstruktur, die umfasst:eine erste Metallschicht (104), die über einem Substrat (102) gebildet wird;eine dielektrische Schicht (112), die über der ersten Metallschicht (104) gebildet wird;eine Haftschicht (130), die in der dielektrischen Schicht (112) und über der ersten Metallschicht (104) gebildet wird; undeine zweite Metallschicht (142), die in der dielektrischen Schicht (112) gebildet wird, wobei die zweite Metallschicht (142) elektrisch mit der ersten Metallschicht (104) verbunden ist, wobei ein Abschnitt der Haftschicht (130) zwischen der zweiten Metallschicht (142) und der dielektrischen Schicht (112) gebildet wird, und wobei die Haftschicht (130) einen ersten Abschnitt (130a), der einen oberen Abschnitt der zweiten Metallschicht (142) säumt, umfasst und wobei der erste Abschnitt (130a) einen erweiterten Abschnitt entlang einer vertikalen Richtung aufweist;dadurch gekennzeichnet, dass die Haftschicht (130) ferner einen zweiten Abschnitt (130b) unter dem ersten Abschnitt (130a) umfasst, und wobei der erste Abschnitt (130a) nicht mit dem zweiten Abschnitt (130b) verbunden ist.