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3D集成电路的设计和验证

摘要

一种设计3D集成电路(3D IC)的方法,包括提供对应于3D IC的第一器件的第一版图和对应于3D IC的第二器件的第二版图。一种验证,如LVS或DRC,不仅可以在每个器件上单独执行,而且为了保证器件之间的完全连通性而执行。该验证可以在包括第一和第二管芯的界面层的单个版图文件(如GDS II文件)上执行。采用包括第一和第二器件的界面层的版图可为3D IC确定虚布局构图。

著录项

  • 公开/公告号CN101609482B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN200910126309.4

  • 发明设计人 王中兴;蔡志昇;刘盈麟;林凯筠;

    申请日2009-02-26

  • 分类号

  • 代理机构北京德恒律师事务所;

  • 代理人梁永

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-18

    授权

    授权

  • 2010-02-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-12-23

    公开

    公开

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