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改进的激光准剥离消除GaN外延片残余应力的方法

摘要

本发明公开一种改进的激光准剥离消除GaN外延片残余应力的方法,很好的释放晶格失配应力和热失配应力。本发明将GaN外延片加热,在200~900℃下,使用无损激光剥离技术在低于将GaN和蓝宝石衬底剥离的能量阈值下进行剥离,或达到激光剥离能量阈值,但激光间或扫描使GaN和蓝宝石界面形成网状分离的不完全分离状态,由此达到释放GaN外延片残余应力的目的。使用加热的情况下进行激光预剥离的方法,可以更有效更大程度上的释放残余应力,并减小损伤。

著录项

  • 公开/公告号CN102148139B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-06-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东莞市中镓半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN201010617788.2

  • 发明设计人 孙永健;张国义;陆羽;刘鹏;

    申请日2010-12-31

  • 分类号

  • 代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司;

  • 代理人谭一兵

  • 地址 523500 广东省东莞市企石镇科技工业园

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-06-13

    授权

    授权

  • 2011-09-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20101231

    实质审查的生效

  • 2011-08-10

    公开

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