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一种离子注入机双法拉第杯测量比值校正系统及校正方法

摘要

本发明公开了一种离子束注入机上对双法拉第杯测量比值进行校正的系统和校正方法。该校正系统包括移动法拉第杯、剂量采样法拉第杯,闭环控制法拉第杯、剂量检测器、数控扫描发生器、电机运动控制器、控制计算机,各个组件之间的连接关系如摘要附图所示。比值校正方法包括:1、启动离子束沿水平方向均匀地扫描,将移动法拉第杯移到硅晶片的中心位置,对扫描离子束进行剂量采样,求算出中心位置处的注入剂量值,公式为:2、再用闭环控制法拉第杯采样扫描离子束的注入剂量,计算出该处的注入剂量值,公式为:3、计算出两法拉第杯剂量探测的比例值,公式为:本发明将两个法拉第杯对注入剂量的探测统一到同一标准,保证离子注入剂量检测的准确性。

著录项

  • 公开/公告号CN102005362B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京中科信电子装备有限公司;

    申请/专利号CN200910090665.5

  • 申请日2009-09-03

  • 分类号H01L21/00(20060101);H01L21/66(20060101);C23C14/48(20060101);H01J37/317(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 101111 北京市通州中关村科技园通州园光机电一体化产业基地兴光二街6号北京中科信电子装备有限公司

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-05-30

    授权

    授权

  • 2011-06-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20090903

    实质审查的生效

  • 2011-04-06

    公开

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