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使用半曝光用正型感光性树脂层的透明性固化膜的制造方法

摘要

本发明提供在维持高灵敏度的状态下具有较宽曝光裕量的透明性固化膜的制造方法,尤其是提供一种透明性固化膜的制造方法,所述透明性固化膜可以在制造半透射型液晶显示元件中的TFT平坦化膜时应用,特别是用于通过半曝光而同时形成接触孔和反射用凹凸。作为本发明的解决问题的方法是,提供一种透明性固化膜的制造方法,其特征在于,包括下述工序:在基材上将曝光灵敏度不同的两层正型感光性树脂层进行叠层,使得低灵敏度的正型感光性树脂层位于所述基材与高灵敏度的正型感光性树脂层之间,然后将该正型感光性树脂层进行曝光、曝光后加热、显影、后烘烤。并且提供一种显示元件,具有通过这样的方法得到的透明性固化膜。

著录项

  • 公开/公告号CN101517492B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-04-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日产化学工业株式会社;

    申请/专利号CN200780034656.3

  • 发明设计人 畑中真;

    申请日2007-09-18

  • 分类号

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人段承恩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-04-18

    授权

    授权

  • 2009-10-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-08-26

    公开

    公开

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