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在大直径6H-SiC碳面上生长石墨烯的方法

摘要

本发明涉及一种大直径6H-SiC碳面上生长石墨烯的方法,将6H-SiC晶片碳面抛光、清洗,碳面朝上平放在单晶生长炉坩埚中的石墨托盘中,抽真空度至1×10

著录项

  • 公开/公告号CN102051677B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-03-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山东大学;

    申请/专利号CN201010541290.2

  • 发明设计人 陈秀芳;魏汝省;胡小波;徐现刚;

    申请日2010-11-12

  • 分类号

  • 代理机构济南金迪知识产权代理有限公司;

  • 代理人许德山

  • 地址 250100 山东省济南市历城区山大南路27号

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-28

    授权

    授权

  • 2011-06-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 27/00 申请日:20101112

    实质审查的生效

  • 2011-05-11

    公开

    公开

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