法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-02-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C08L 5/16 授权公告日:20120118 终止日期:20131227 申请日:20071227
专利权的终止
2012-01-18
授权
授权
2008-09-17
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-07-23
公开
公开
机译: 用于形成超低介电层的模板衍生物以及使用该模板衍生物形成超低介电层的方法
机译: 用于形成超低介电层的模板衍生物以及使用该模板衍生物形成超低介电层的方法
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