法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-30
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01S 3/109 授权公告日:20111214 终止日期:20140813 申请日:20100813
专利权的终止
2011-12-14
授权
授权
2011-09-14
著录事项变更 IPC(主分类):H01S 3/109 变更前: 变更后: 申请日:20100813
著录事项变更
2011-03-30
实质审查的生效 IPC(主分类):G01P 3/36 申请日:20100813
实质审查的生效
2011-02-16
公开
公开
机译: 电子束入射角测量装置,电子束入射角分布测量装置,电子束曝光装置,电子束入射角测量方法和电子束入射角分布测量方法
机译: 自由电子波包的测量方法
机译: 电子零件厚度测量方法,使用该测量方法制造一系列电子零件的方法,通过该制造方法制造的一系列电子零件以及电子零件检查装置