首页> 中国专利> 光近场产生装置、光近场产生方法及信息记录和再现装置

光近场产生装置、光近场产生方法及信息记录和再现装置

摘要

本发明提供了一种光近场产生装置。光近场产生装置包括:光源;光透射衬底;以及被光源发射的光照射以产生光近场的导电散射体。散射体形成在光透射衬底的具有不同高度的平面上,并且包括形成于与被施加光近场的物体最接近的表面上的第一区域和形成于相比第一区域远离物体表面上的第二区域。光近场从散射体的第一区域朝向物体产生。

著录项

  • 公开/公告号CN101261837B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 索尼株式会社;

    申请/专利号CN200710185775.0

  • 发明设计人 本乡一泰;渡边哲;

    申请日2007-10-08

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人马高平

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-24

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 5/00 授权公告日:20120104 终止日期:20181008 申请日:20071008

    专利权的终止

  • 2012-01-04

    授权

    授权

  • 2012-01-04

    授权

    授权

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-09-10

    公开

    公开

  • 2008-09-10

    公开

    公开

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