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一种直接法反应器及生产卤代硅烷的直接法

摘要

本发明涉及一种用于直接法中的热交换元件。所述热交换元件包括在其表面的至少一部分表面上涂覆有耐损耗涂层的热交换元件。所述耐损耗涂层形成与所述热交换元件的强结合,且具有高于50HRC的硬度。这种涂层可以在直接法所处的物理化学环境下保持完好。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-01

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):F28F 19/06 变更前: 变更后: 申请日:20071128

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-12-21

    授权

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  • 2011-12-21

    授权

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  • 2009-11-11

    实质审查的生效

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  • 2009-11-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-09-16

    公开

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  • 2009-09-16

    公开

    公开

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