法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01G 3/12 授权公告日:20111214 终止日期:20170208 申请日:20100208
专利权的终止
2011-12-14
授权
授权
2011-12-14
授权
授权
2010-09-22
实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 3/12 申请日:20100208
实质审查的生效
2010-09-22
实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 3/12 申请日:20100208
实质审查的生效
2010-08-04
公开
公开
2010-08-04
公开
公开
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机译: 使用纳米晶体的前体在低温下形成的IV组半导体薄膜(使用纳米晶前体在低温下制成的GROUP IV半导体薄膜)
机译: 具有三层钙钛矿结构的LaA低2 Cu 3低O 7低3 x单晶薄膜和LaA低2 Cu低3 O低7低7 x薄膜的制造方法
机译: 具有三层钙钛矿结构的LnA低2 Cu低3 O低7-x单晶薄膜的制造方法和LnA低2 Cu低3 O低7-x单层薄膜