公开/公告号CN101840933B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-11-23
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州博创集成电路设计有限公司;
申请/专利号CN201010146489.5
申请日2010-04-13
分类号H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);
代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;
代理人楼高潮
地址 215123 江苏省苏州市苏州工业园区独墅湖林泉街399号1号楼3层
入库时间 2022-08-23 09:08:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-06-22
专利实施许可合同备案的变更 IPC(主分类):H01L 29/78 合同备案号:2015320010006 变更日:20150311 变更前: 变更后: 申请日:20100413
专利实施许可合同备案的生效、变更及注销
2015-04-08
专利实施许可合同备案的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 合同备案号:2015320010006 让与人:苏州博创集成电路设计有限公司 受让人:无锡芯朋微电子股份有限公司 发明名称:带表面缓冲环终端结构的超结金属氧化物场效应晶体管 申请公布日:20100922 授权公告日:20111123 许可种类:排他许可 备案日期:20150123 申请日:20100413
专利实施许可合同备案的生效、变更及注销
2011-11-23
授权
授权
2010-11-10
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20100413
实质审查的生效
2010-09-22
公开
公开
机译: 超结金属氧化物半导体场效应晶体管的结构
机译: 超结金属氧化物半导体场效应晶体管的结构
机译: 带内部浮环的超结场效应晶体管