首页> 中国专利> 层叠结构、使用其的电子元件、其制造方法、电子元件阵列和显示单元

层叠结构、使用其的电子元件、其制造方法、电子元件阵列和显示单元

摘要

公开的层叠结构包括:基板;在基板形成的润湿性变化层,该润湿性变化层包括临界表面张力通过接收能量而变化的材料;和在润湿性变化层上形成的电极层,该电极层根据润湿性变化层形成图案。临界表面张力通过接收能量而变化的材料包括含主链和侧链的聚合物,该侧链包括多支链结构。

著录项

  • 公开/公告号CN101356651B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社理光;

    申请/专利号CN200780001102.3

  • 发明设计人 田野隆德;铃木幸荣;津田佑辅;

    申请日2007-07-19

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人宋莉

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/786 授权公告日:20111221 终止日期:20190719 申请日:20070719

    专利权的终止

  • 2011-12-21

    授权

    授权

  • 2011-12-21

    授权

    授权

  • 2009-03-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-03-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-01-28

    公开

    公开

  • 2009-01-28

    公开

    公开

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