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大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线

摘要

大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线,它包括在机座横向方向上布设数个依次相邻、且与抽气系统连通的由预抽室等组成的真空室组区以及紧邻的进片区、出片区,进片区由进片平移架等组成,出片区由出片平移架等组成,于真空室组区、进片区和出片区上设置磁导向传送装置并与适配的工件回行架组成沿装载架镀膜运行方向和装载架回行运行方向连续循环运行的生产环路,实现基片的大面积抗反射导电膜的连续磁控溅射镀膜的技术方案,它克服了传统透明导电膜生产线,透过率范围不高,无传送室,基片装载架的传送速度转换比小,生产效率较低等缺陷。它适合用于各类显示面板、太阳能面板和装饰面板的透明导电膜、抗反射膜、高反射膜等大面积镀膜的生产。

著录项

  • 公开/公告号CN101353782B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 郭爱云;

    申请/专利号CN200810143143.2

  • 发明设计人 郭爱云;朱选敏;孙桂红;祝海生;

    申请日2008-09-05

  • 分类号C23C14/35(20060101);C23C14/56(20060101);

  • 代理机构43207 湘潭市雨湖区创汇知识产权代理事务所;

  • 代理人左祝安

  • 地址 411104 湖南省湘潭市九华经济开发区盛世路8号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-04-04

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/35 变更前: 变更后: 登记生效日:20120223 申请日:20080905

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-08-31

    授权

    授权

  • 2009-03-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-01-28

    公开

    公开

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