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专利名称：高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备

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本实用新型提供了一种高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备。包括依次连接的前锁定室，前等待室，过渡室。金属膜工作室，含氩气进口和氧气进口的介质膜工作室，

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来源
《表面技术》 |2005年第4期|44-44|共1页
作者
甘国工;
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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类溅射;化学激光器;
关键词
磁控溅射镀膜; 生产设备; 高反射镜; 专利名称; 实用新型; 工作室; 金属膜; 介质膜; 进口;

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