法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-10-19
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/00 变更前: 变更后: 申请日:20071205
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2011-09-07
授权
授权
2009-08-12
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-06-11
公开
公开
机译: 光掩模检查装置,光掩模检查方法,用于液晶装置制造的光掩模制造方法以及图案转印方法
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机译: 掩膜图案校正方法,掩膜图案检查方法,光电掩膜制造方法以及半导体装置制造方法