公开/公告号CN101630006B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-08-24
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN200910056646.0
发明设计人 刘立人;
申请日2009-08-19
分类号G01S7/481(20060101);G01S17/89(20060101);
代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;
代理人张泽纯
地址 201800 上海市800-211邮政信箱
入库时间 2022-08-23 09:07:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-10-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01S 7/481 授权公告日:20110824 终止日期:20140819 申请日:20090819
专利权的终止
2011-08-24
授权
授权
2010-03-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2010-01-20
公开
公开
机译: 面发射激光和面发射激光阵列,制造面发射激光阵列的方法和制造方法以及具有面发射激光阵列的光学设备
机译: 用于生产例如三维电影院,具有在反射面之前部分布置的透镜阵列,以便在光束在部分反射面反射之前和之后使激光束穿过阵列
机译: 制造垂直腔面激光的方法和制造激光阵列的方法,垂直腔面发射激光和激光阵列以及使用激光阵列的图像形成装置