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用于痕量元素制图的单色x射线微束

摘要

一种用于激发处于x射线分析中的样品的x射线系统或方法,其使用弯曲的单色光学器件将来自x射线源的单色x射线束引导朝向第一焦点区域。第二光学器件安置在单色x射线束中并接收该单色x射线束,且将聚焦的x射线束引导朝向样品上的第二焦点区域。探测器安置在样品附近,以收集作为聚焦的x射线束的结果的而来自样品的辐射。弯曲的单色光学器件在所述第一焦点区域产生的束斑尺寸大于由所述第二光学器件在所述第二焦点区域产生的束斑尺寸,因此,通过使用第二光学器件减小了样品上的束斑尺寸。双曲单色光学器件和多毛细管光学器件作为光学器件的可能的实施被公开。

著录项

  • 公开/公告号CN101278360B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 X射线光学系统公司;

    申请/专利号CN200680036809.3

  • 发明设计人 陈泽武;高宁;W·吉布森;

    申请日2006-07-26

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人蹇炜

  • 地址 美国纽约

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-17

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G21K 1/06 授权公告日:20110727 终止日期:20170726 申请日:20060726

    专利权的终止

  • 2011-07-27

    授权

    授权

  • 2011-07-27

    授权

    授权

  • 2008-11-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-11-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-10-01

    公开

    公开

  • 2008-10-01

    公开

    公开

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