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一种可提高缺陷检验可靠性的方法

摘要

本发明涉及一种可提高缺陷检验可靠性的方法。现有的掩膜检验机台上仅有少数几种缺陷检验设定,其很难适合具有多样图形的掩膜,故难以确保每一经该检验机台检验的掩膜上的缺陷均被发现。本发明的方法首先在每一进行缺陷检验的掩膜的非图形区域上制作一标准缺陷单元;接着存储该标准缺陷单元对应的基准图形及基本缺陷捕获图形;然后在该检验机台上检验该掩膜,且测得该标准缺陷单元的图形;之后将所测得的标准缺陷单元的图形与其基准图形进行对比来得到该标准缺陷单元的实际缺陷捕获图形;最后判断该实际缺陷捕获图形是否完全包括该基本缺陷捕获图形并依据判断结果决定是否继续进行缺陷检验。采用本发明的所提供的方法能提高缺陷检验的可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN101210932B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-07-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200610148090.4

  • 发明设计人 田明静;

    申请日2006-12-27

  • 分类号G01N35/00(20060101);H01L21/66(20060101);G01R31/28(20060101);

  • 代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人王洁

  • 地址 201203 上海市张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N 35/00 授权公告日:20110713 终止日期:20181227 申请日:20061227

    专利权的终止

  • 2011-07-13

    授权

    授权

  • 2011-07-13

    授权

    授权

  • 2008-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-08-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-02

    公开

    公开

  • 2008-07-02

    公开

    公开

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