首页> 中国专利> 用于在真空中对表面进行等离子体处理的方法及装置

用于在真空中对表面进行等离子体处理的方法及装置

摘要

为了实现具有从真空处理过程中得到的处理结果的预定两维表面分布的基片表面,产生不均匀密度分布的等离子体(5),并且相对基片(9)以预定移动来使其移动,提供等离子体放电的电功率随时间变化。

著录项

  • 公开/公告号CN1745453B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OC欧瑞康巴尔斯公司;

    申请/专利号CN200380109320.0

  • 申请日2003-11-13

  • 分类号H01J37/34(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/54(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人程天正;张志醒

  • 地址 列支敦士登巴尔策斯

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-20

    专利权的转移 IPC(主分类):H01J37/34 登记生效日:20200303 变更前: 变更后: 申请日:20031113

    专利申请权、专利权的转移

  • 2020-03-20

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J37/34 变更前: 变更后: 申请日:20031113

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-08-13

    专利权的转移 IPC(主分类):H01J37/34 变更前: 变更后: 登记生效日:20140724 申请日:20031113

    专利申请权、专利权的转移

  • 2014-08-13

    专利权的转移 IPC(主分类):H01J 37/34 变更前: 变更后: 登记生效日:20140724 申请日:20031113

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-08-31

    授权

    授权

  • 2011-08-31

    授权

    授权

  • 2006-05-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-05-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-03-08

    公开

    公开

  • 2006-03-08

    公开

    公开

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