包括具有正型和负型标记的道的光学存储介质、用于制造该光学存储介质的压模和制造方法

摘要

光学存储介质(1)包括基板层(2)、基板层(2)上的在道(T1-T4)中设置标记/间隔结构的数据层(3)以及覆盖层(7)。一条道(T1、T3)包括正型标记(PM)而相邻的道(T2、T4)包括负型标记(NM)。道特别设置为螺旋线(S1、S2)，其中一条螺旋线(S1)包含仅有正型标记(PM)的道而相邻螺旋线包含仅有负型标记(PM)的道。道的正型标记与对应的道的负型标记被间隔隔开。光学存储介质具体是只读光盘并包括具有超分辨率近场结构的掩模层，其中数据层的道设置为两条螺旋线，一条螺旋线仅包括正型标记而另一条螺旋线包括负型标记。为了制造光学存储介质，提供压模和用于制造压模的母版的制造方法，压模包括具有正型和负型标记的表面，所述正型和负型标记对应于光学存储介质的数据层的相应正型和负型标记。