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一种基于微透镜阵列的连续面形微结构成形方法

摘要

一种基于微透镜阵列的连续面形微结构成形方法:(1)在基底表面涂覆光刻胶;(2)将基底的光刻胶面和掩模图形分别放置于微透镜阵列的像面和物面处;(3)在掩模图形上方放置毛玻璃,并利用光源照射毛玻璃产生散射光,作为掩模图形的曝光光源;(4)对掩模图形进行缩小投影曝光,在曝光过程中,移动掩模图形或移动涂覆有光刻胶的基片,或移动微透镜阵列实现对抗蚀剂表面光强的连续调制;(5)更换其它物体,并移动掩模图形、微透镜阵列、涂覆抗蚀剂基片三者之间的相对位置,重复步骤(4)实现不同物体的嵌套光刻;(6)取出基片进行显影,获得需要的连续面形微结构。本发明不需要大型设备制备光刻掩膜,大大降低了工艺的复杂程度。

著录项

  • 公开/公告号CN101126897B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN200710121242.6

  • 发明设计人 杜春雷;董小春;刘强;邓启凌;

    申请日2007-08-31

  • 分类号G03F7/00(20060101);G03F1/00(20060101);G03F7/20(20060101);B81C1/00(20060101);

  • 代理机构11251 北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人贾玉忠;卢纪

  • 地址 610209 四川省双流350信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-10-19

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/00 授权公告日:20110629 终止日期:20150831 申请日:20070831

    专利权的终止

  • 2011-06-29

    授权

    授权

  • 2008-11-19

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-20

    公开

    公开

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