法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F7/004 授权公告日:20110518 终止日期:20190120 申请日:20060120
专利权的终止
2011-05-18
授权
授权
2011-05-18
授权
授权
2006-10-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-10-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-08-23
公开
公开
2006-08-23
公开
公开
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机译: 用于形成厚抗蚀膜,厚抗蚀叠层的正抗蚀剂组合物以及形成抗蚀剂图案的方法
机译: 衰减射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,电子设备的制造方法,抗蚀膜制成的掩模毛坯,抗蚀膜制成的掩模毛坯的图案形成方法
机译: 有源光敏感或辐射敏感树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,制造电子设备的方法,具有抗蚀膜的面膜毛坯以及具有抗蚀膜的面膜的图案形成方法