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半导体制造装置中的地震受害扩散减轻方法和系统

摘要

本发明提供一种半导体制造装置的地震受害扩散减轻方法和系统,包括:具有收纳容器的搬送机构的搬送区域;通过搬入搬出部从收纳容器取下盖并检测被处理体位置的检测机构;从搬送机构将收纳容器交至移载部的交接机构;设在热处理炉下方作业区域、将保持件支撑在盖体上并向热处理炉出入的升降机构;使分割搬送和作业区域的隔壁的开口部与移载部的收纳容器的盖同时开关的门机构;被处理体排列机构。经由通信线路发布的基于初期微动的紧急地震信息由接收部接收或初期微动检测部直接检测初期微动。控制部实行基于接收部接收的紧急地震信息或初期微动检测部检测的初期微动停止半导体制造装置运转的第一工序以及当门机构为打开状态时使其关闭的第二工序。

著录项

  • 公开/公告号CN101447404B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN200810178487.7

  • 发明设计人 菅原佑道;菊池浩;

    申请日2008-12-01

  • 分类号

  • 代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人龙淳

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    授权

    授权

  • 2010-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20081201

    实质审查的生效

  • 2009-06-03

    公开

    公开

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