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公开/公告号CN101107196B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-03-30
原文格式PDF
申请/专利权人 东亚合成株式会社;
申请/专利号CN200680002738.5
发明设计人 石川幸二;铃木浩;木全良典;
申请日2006-03-17
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人王健
地址 日本东京
入库时间 2022-08-23 09:06:26
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-30
授权
2008-03-05
实质审查的生效
2008-01-16
公开
机译: 六氯化二硅的精制方法及高纯度六氯化二硅
机译: 纯化二硅六方化物和高纯度二硅六方化物的方法
机译:在温和的反应条件下,在无水氯化铁存在下,使用六甲基二硅氮烷保护醇和酚的新方法
机译:在氯化硅存在下使用六甲基二硅氮烷进行醇化学选择性甲硅烷基化的温和有效方法
机译:三氯化镧:通过活化六甲基二硅氮烷(HMDS)进行羟基甲硅烷基化的有效催化剂
机译:利用六氯化萘磷腈的取代反应选择性合成硫氰酸二苯二氟苯氮氧化物衍生物
机译:表面反应机理与表面成分,吸附物覆盖率和吸附物酸度的关系:I.金属处理过的硅上的三甲基镓。二。在铜上的六氟戊二酮,甲醇和丙酮。
机译:由硅烷阴离子MeSiC4Ph4合成11-双(1-甲基/氯-2345-四苯基-1-硅环戊二烯基)Ph4C4Si(Me / Cl)-(Me / Cl)SiC4Ph4 −•Li +或Na +和Silole Dianion SiC4Ph4 2-•2 Li +;氯化亚铁(FeCl2)对硅阴离子MeSiC4Ph4-•Li +或Na +的氧化偶联和氯化铜(CuCl2)对硅阴离子SiC4Ph4 2-•2 Li +的氧化偶联和氯化处理
机译:供体稳定的甲硅烷基阳离子。 11.通过双内置氯化物衍生自(CLCH2)2SICL2的BIS-两性离子硅和六环硅二胶络合物
机译:氯($ 17 $ C $ sup 136 $)TRaCER sTUDIEs。第一部分。三氧化二铀 - 六氯丙烯反应机理。第二部分。几种有机氯化物 - 无机氯化物系统的交换反应