首页> 中国专利> 六氯化二硅的精制方法和高纯度六氯化二硅

六氯化二硅的精制方法和高纯度六氯化二硅

摘要

本发明的目的在于提供从含有硅烷醇作为杂质的六氯化二硅原料中高效地除去硅烷醇,得到高纯度的六氯化二硅的方法。本发明的六氯化二硅的精制方法具有使含有六氯化二硅和作为杂质的硅烷醇的六氯化二硅原料与活性炭等吸附材料接触,将硅烷醇除去的工序。可以还具有进行蒸馏的工序。上述各工序优选在惰性气体气氛下进行。

著录项

  • 公开/公告号CN101107196B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东亚合成株式会社;

    申请/专利号CN200680002738.5

  • 发明设计人 石川幸二;铃木浩;木全良典;

    申请日2006-03-17

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王健

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-30

    授权

    授权

  • 2008-03-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-16

    公开

    公开

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