描图系统及方法、曝光参数计算装置及方法、基板制造法

摘要

本发明提供一种描图系统，从而在描图处理中，不必根据know-how的知识的设定而形成适当的描图图案。根据预设的发光长度，根据二个式子而算出曝光动作间距(Epm)及扫瞄速度(Vm)。然后，在各种曝光量与发光长度以及与其对应的扫瞄速度与曝光动作间距中，对应于所选择的曝光量及发光长度而决定扫瞄速度及曝光动作间距，并将其作为曝光参数而在描图处理中做设定。