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用于表面分析的光谱仪及表面分析方法

摘要

本发明提供了一种用于表面分析的光谱仪(10)及表面分析方法。光谱仪(10)提供试样观察和与试样表面大体正交的二次带电粒子收集。收集腔室(22)包括:二次带电粒子透镜装置(20),其用于使发出的粒子在下游方向上沿第一正交轴线(24)聚焦,由此限定带电粒子光学交叉位置(25);光反射光学元件(50),其位于所述透镜装置下游,并被设置成接收图像光(41)并使该光反射远离第二正交轴线(42)以提供所述表面的可观察图像。该光学元件(50)定位在交叉位置(25)处或附近,并包括贯穿其的开口(52),从而使聚焦的粒子穿过该开口以进行下游光谱分析,且大体不会受到该光学元件的阻碍。

著录项

  • 公开/公告号CN1967224B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 萨默费舍科学股份有限公司;

    申请/专利号CN200610142720.7

  • 发明设计人 布赖恩·罗伯特·巴纳德;

    申请日2006-10-30

  • 分类号

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人党晓林

  • 地址 美国马萨诸塞州

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-02-23

    授权

    授权

  • 2008-04-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-05-23

    公开

    公开

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