摘要
ABSTRACT
第一章 绪论
第一节半导体表面清洗的重要性
第二节半导体表面杂质沾污的种类和清洗方法
第三节砷化镓表面清洗的要求
第四节砷化镓表面清洗的研究进展
第二章砷化镓表面清洗技术及清洗机理
第一节传统的清洗技术
第二节新型清洗技术
1.新型清洗技术的清洗机理
2.最佳使用条件下清洗液的浓度
3.最佳使用条件下清洗液的温度
第三章砷化镓表面的化学配比研究
第一节X射线光电子谱的运用
第二节不同清洗技术对表面组成的影响
2.1硫酸清洗条件的探讨
2.2不同清洗技术对表面的影响
第三节表面层厚度的计算
第四节硫酸清洗技术的改进
第四章不同清洗技术对表面污染的去除
第一节不同清洗技术对表面碳污染的去除
第二节新型清洗技术中冲水方式的选择
第三节金属离子在表面上的沾污
第五章砷化镓表面粗糙性研究
第一节不同清洗技术对表面粗糙的影响
第二节超声对对表面粗糙的影响
第六章 砷化镓表面的润湿性
第七章 结论
参考文献
致谢
