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一种太阳电池用硅量子点的低温生长方法

摘要

本发明涉及一种太阳电池用硅量子点的低温生长方法,属硅量子点材料技术领域。本方法为:用等离子体增强化学气相沉积技术在<450℃温度下,在S硅晶片或石英片或玻璃片或不锈钢片或耐高温聚合物衬底材料上交替生长几纳米厚的化学计量比的硅化合物介质层和富Si的硅化合物层;后利用快速光热退火技术在≤550℃的温度下后退火处理,使富Si的硅化合物层中富余的Si发生扩散迁移,固相晶化,形成Si量子点;形成的Si量子点为层状排布,其尺寸由原始生长的富Si的硅化合物层的厚度控制,量子点的密度由原始富Si的SiN

著录项

  • 公开/公告号CN101626048B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 云南师范大学;

    申请/专利号CN200910094696.8

  • 申请日2009-07-08

  • 分类号

  • 代理机构昆明今威专利代理有限公司;

  • 代理人杨宏珍

  • 地址 650092 云南省昆明市五华区一二一大街298号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 31/18 授权公告日:20101208 终止日期:20150708 申请日:20090708

    专利权的终止

  • 2010-12-08

    授权

    授权

  • 2010-03-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2010-01-13

    公开

    公开

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