首页> 中国专利> 远心轴上暗场照明所实施的光学系统的优化使用及性能

远心轴上暗场照明所实施的光学系统的优化使用及性能

摘要

本发明提供一种系统及方法,通过本发明提出以成像平面镜状物体(102),诸如:半导体晶圆。于实施例中,用于成像于平面镜状物体(102)的缺陷的一种成像系统(100)包括远心透镜(110),其具有充分非球面表面,使远心透镜实质修正光学像差。成像系统(100)还包括远心光圈(116),于其包括孔径,以阻断自平面镜状物体(102)所反射的光线而允许自缺陷所反射的光线为通过孔径。成像系统(100)更包括透镜群组(108),其具有定位于远心光圈(116)与透镜群组(108)之间的系统光圈。透镜群组(108)无关于远心透镜(110)而实质修正光学像差。

著录项

  • 公开/公告号CN101218500B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 伊雷克托科学工业股份有限公司;

    申请/专利号CN200680024877.8

  • 发明设计人 里欧·鲍德温;约瑟·J.·伊莫瑞;

    申请日2006-07-07

  • 分类号

  • 代理机构北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人许静

  • 地址 美国奥勒冈州

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-12-08

    授权

    授权

  • 2008-09-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-09

    公开

    公开

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