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一种晶圆及利用该晶圆识别错误制程的方法

摘要

本发明提供一种晶圆,其边缘设有第一缺口,其中,在晶圆的边缘至少还设有第二缺口,第二缺口与第一缺口的位置相差90度,形状不同,且开口高度相等。本发明还提供一种利用晶圆识别错误制程的方法,晶圆上设有至少两个缺口,至少两个晶圆通过该制程,该方法包括如下步骤:第一片晶圆通过该晶圆上的第一缺口定位,通过该制程;将第二片晶圆旋转90度,通过该晶圆上的第二缺口定位,通过该制程;通过第一缺口定位检测第一片晶圆上的芯片参数;通过第二缺口定位检测第二片晶圆上的芯片参数;对比两个晶圆上芯片参数的失效模式来判断该制程是否出现错误。与现有技术相比,本发明可以有效识别错误制程,而且简化了判断坏片出现原因的过程。

著录项

  • 公开/公告号CN101174610B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-11-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200610117984.7

  • 发明设计人 郭强;简维廷;

    申请日2006-11-03

  • 分类号

  • 代理机构上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人王洁

  • 地址 201203 上海市张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-29

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 23/544 授权公告日:20101110 终止日期:20181103 申请日:20061103

    专利权的终止

  • 2010-11-10

    授权

    授权

  • 2010-11-10

    授权

    授权

  • 2008-07-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-05-07

    公开

    公开

  • 2008-05-07

    公开

    公开

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