首页> 中国专利> 用肖特基源极触点实施的隔离栅极沟槽式金属氧化物半导体场效应晶体管单元

用肖特基源极触点实施的隔离栅极沟槽式金属氧化物半导体场效应晶体管单元

摘要

本发明公开一种半导体功率组件,其包括若干功率晶体管记忆胞,该记忆胞被开设于一半导体衬底中的沟槽所围绕。至少一半导体记忆胞进一步包括一开设在沟槽之间的沟槽式源极触点,此沟槽式源极触点穿过一源极区而进入一本体区中,从而将源极区与位于一绝缘层上方的源极金属电性连接,此沟槽式源极触点的沟槽底部表面更覆盖着一导电性材料,使作用就如一集成式肖特基势垒二极管在该有源记忆胞中。一隔离结构位于沟槽式栅极的底部并与沟槽式栅极绝缘,从而对沟槽式栅极与肖特基二极管两者提供屏蔽效应。

著录项

  • 公开/公告号CN101385148B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-09-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN200780005411.8

  • 发明设计人 安荷·叭刺;斯科·K·雷;

    申请日2007-03-12

  • 分类号H01L29/76(20060101);

  • 代理机构31249 上海信好专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人徐雯琼

  • 地址 百慕大哈密尔顿维多利亚街22号佳能院

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-09-15

    授权

    授权

  • 2009-05-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-03-11

    公开

    公开

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