公开/公告号CN101385148B
专利类型发明专利
公开/公告日2010-09-15
原文格式PDF
申请/专利权人 万国半导体股份有限公司;
申请/专利号CN200780005411.8
申请日2007-03-12
分类号H01L29/76(20060101);
代理机构31249 上海信好专利代理事务所(普通合伙);
代理人徐雯琼
地址 百慕大哈密尔顿维多利亚街22号佳能院
入库时间 2022-08-23 09:05:00
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-09-15
授权
授权
2009-05-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-03-11
公开
公开
机译: 沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管,带有多个沟槽式源极-体接触,可减少栅极电荷
机译: 功率晶体管单元具有可靠的沟槽式源极触点,连接到较窄的源极,无需源极掩模即可制造
机译: 用于半导体器件的功率晶体管栅极隔离测试方法,包括向导线施加测试电位以及在栅极触点和源极触点之间施加另一测试电位以确定故障电流