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铁电存储器用铁电薄膜的紫外光辅助制备方法

摘要

本发明公开了一种铁电存储器用铁电薄膜的紫外光辅助制备方法,属于微电子信息功能材料与器件领域。本发明铁电存储器用PZT前驱体溶液浓度为0.1~0.3mol/l。每次旋转匀胶后,都对薄膜进行烘烤并辅以均匀紫外光辐照,光照度为10~15mW/cm2,接着进行热解处理,最后PZT薄膜在550~600℃下退火处理。本发明铁电存储器用PZT铁电薄膜为多晶薄膜,具有良好的铁电性能、抗疲劳性能及漏电流特性,且结晶温度低的优点,可与现有的Si半导体工艺兼容。

著录项

  • 公开/公告号CN101436532B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN200810236930.1

  • 申请日2008-12-19

  • 分类号H01L21/02(20060101);H01L21/316(20060101);H01L21/8247(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人曹葆青

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-02-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/02 授权公告日:20100630 终止日期:20111219 申请日:20081219

    专利权的终止

  • 2010-06-30

    授权

    授权

  • 2009-07-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-05-20

    公开

    公开

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