基于纳米压印技术的自支撑透射金属光栅制备方法

摘要

本发明涉及一种基于纳米压印技术制备的，用于深紫外线、软X射线和物质粒子衍射的高密度、自支撑透射金属光栅，金属光栅的线密度＞2000条/毫米，光栅无衬底支撑，光栅金属线条间是镂空的，金属线条由足够强度、较大周期(1～40微米)的金属网络结构支撑，构成光栅的金属材料是金。其制作步骤：1)纳米压印技术、反应离子刻蚀工艺、电化学镀膜工艺在衬底上制备高密度金属光栅；2)光刻工艺和电化学镀膜工艺制备大周期金属网络支撑结构；3)化学刻蚀方法除去衬底使光栅镂空；4)聚焦离子束技术对透射光栅在制作过程中产生的局部缺陷进行修复。本发明以纳米压印技术制备光栅结构，制作方法便捷可靠、大幅度降低了制作成本。