超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶

摘要

本发明公开了一种超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶。它包括贯穿安装法兰(1)的、与靶屏蔽罩(3)内的水冷腔部件(5)相连接的冷却水管(6)，特别是(a)冷却水管(6)经冷却水管密封部件(2)与安装法兰(1)相连接；(b)水冷腔部件(5)为水冷腔上、下法兰(511，512)经密封圈(52)和螺钉(53)连接，水冷腔下法兰(512)内置有软铁(58)和永磁铁(54)，冷却水管(6)贯穿其底部后与其焊接连通连接，螺母(57)经冷却水管(6)外螺纹与其外套装的绝缘套垫(56)相抵压连接；(c)矩形平面溅射靶还包括一个以上的支撑螺杆(10)和与其配接的支撑螺杆密封部件(7)。它的真空度高达6×10