浸润微影设备与浸润曝光方法

摘要

本发明的实施例公开一种使用一密封的晶片底部的浸润微影系统与方法。在一实施例中，浸润微影设备包括：镜头组，包括影像镜头及晶片基座；该晶片基座用于将晶片保持于该镜头组下方，且该晶片基座包括密封环，该密封环用于密封介于保持在该晶片基座上的晶片的底部边缘与该晶片基座间的间隙。此浸润微影设备还包括：流体槽，用于保持浸润流体，该流体槽包括该晶片基座以使保持在该晶片基座上的晶片完全浸润于该浸润流体中；外盖，置于该流体槽的至少一个部分，以在该流体槽内提供温度受到控制且富含流体的环境；以及至少一个流动方向控制流体入口，环绕该影像镜头，用于导引该浸润流体流向最靠近该影像镜头的保持于该晶片基座上的晶片的边缘。