• 主题
高级搜索  >
历史搜索 清空历史
首页> 中国专利> 气体阻隔性薄膜、基材薄膜及有机电致发光元件

气体阻隔性薄膜、基材薄膜及有机电致发光元件

页面导航
  • 摘要
  • 著录项
  • 法律信息
  • 相似文献

摘要

本发明提供具有适于连续成膜的高生产率的高气体阻隔性薄膜。其包含基材薄膜和在该基材薄膜上具有的气体阻隔性层叠体，该气体阻隔性层叠体的构成为：具有至少1个由以硅氧氮化物层、硅氧化物层、硅氧氮化物层的顺序相互邻接配置的3层所构成的单元。

著录项

  • 公开/公告号CN1899815B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士胶片株式会社;

    申请/专利号CN200610101931.6

  • 发明设计人 岩永宏;樱井靖也;

    申请日2006-07-11

  • 分类号B32B33/00(20060101);B32B9/00(20060101);C08L101/12(20060101);C08J7/06(20060101);H01L51/56(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人陈建全

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-08-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B32B 33/00 授权公告日:20100512 终止日期:20130711 申请日:20060711

    专利权的终止

  • 2014-08-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B32B 33/00 授权公告日:20100512 终止日期:20130711 申请日:20060711

    专利权的终止

  • 2010-05-12

    授权

    授权

  • 2010-05-12

    授权

    授权

  • 2008-01-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-06-20

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070511 申请日:20060711

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2007-06-20

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070511 申请日:20060711

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2007-06-20

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070511 申请日:20060711

    专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

  • 2007-01-24

    公开

    公开

  • 2007-01-24

    公开

    公开

查看全部

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

  • 客服微信

  • 服务号