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光刻投影设备、气体吹扫方法、设备制造方法和吹扫气体提供系统

摘要

光刻投影设备包括支架,所述支架用于支撑图案形成装置,所述图案形成装置用于依照所期望的图案来使投影射束形成图案。所述设备具有用于保持衬底的衬底台,所述投影系统用于把已形成图案的射束投影到衬底的目标部分上。所述设备还具有吹扫气体提供系统,用于在光刻投影设备的部件表面附近提供吹扫气体。所述吹扫气体提供系统包括吹扫气体混合物生成器,用于生成包括至少一种吹扫气体和水分的吹扫气体混合物。所述吹扫气体混合物生成器具有用于向吹扫气体添加水分的补湿器,并且具有与所述吹扫气体混合物生成器相连并且用于在表面附近提供吹扫气体的吹扫气体混合物出口。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-09-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20100217 终止日期:20120721 申请日:20040721

    专利权的终止

  • 2010-04-07

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20040721

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-02-17

    授权

    授权

  • 2006-10-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-08-30

    公开

    公开

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