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公开/公告号CN100589979C
专利类型发明授权
公开/公告日2010-02-17
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社理光;
申请/专利号CN200680004473.2
发明设计人 角田慎一;
申请日2006-11-10
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人宋莉
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:04:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-02-17
授权
2008-03-19
实质审查的生效
2008-01-30
公开
机译: 通过到具有液滴喷射头和液滴喷射装置的液滴喷射装置的所述喷射口和所述喷射口的连通路径,所述液滴喷射装置具有所述液滴喷射头和所述液滴喷射装置。
机译: 液滴喷射头,液滴喷射装置,液滴喷射头的制备方法和液滴喷射装置
机译:通过液滴杂项方法和Alinas缓冲液形成InAs量子点和AlinaS缓冲液和在电流喷射装置上的应用
机译:形成INAS量子点到GALNASP和AlinaS缓冲液通过液滴杂项方法和应用于电流喷射装置
机译:使用注射器的高速液滴喷射装置的研制及液滴碰撞观察
机译:受限的3D流动聚焦几何条件下的气液液滴微流体,在喷射条件下产生液滴
机译:片上成像液滴分选系统:实时形状识别方法以单细胞分辨率筛选液滴中的靶细胞
机译:超声波微流体喷射装置中液滴形成机理
机译:用于液滴动力学模块spacelab实验的零G液滴喷射器