公开/公告号CN100594424C
专利类型发明授权
公开/公告日2010-03-17
原文格式PDF
申请/专利权人 富士通微电子株式会社;
申请/专利号CN200480001762.8
申请日2004-05-26
分类号G03F1/08(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构72003 隆天国际知识产权代理有限公司;
代理人高龙鑫;王玉双
地址 日本国东京都
入库时间 2022-08-23 09:03:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-11-10
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/08 变更前: 变更后: 申请日:20040526
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2010-11-10
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/08 变更前: 变更后: 申请日:20040526
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2010-03-17
授权
授权
2008-12-10
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20081107 申请日:20040526
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
2006-03-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-01-18
公开
公开
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机译: 光掩模,包括光掩模的层压体,光掩模的制备方法,使用光掩模的图案形成装置以及使用光掩模的图案形成方法
机译: 光掩模,包含光掩模的层状结构,光掩模的制备方法,使用光掩模的图案形成装置以及使用光掩模的图案形成方法
机译: 光掩模,包含光掩模的层状结构,光掩模的制备方法,使用光掩模的图案形成装置以及使用光掩模的图案形成方法