首页> 中国专利> 图形尺寸校正装置及方法、光掩模以及试验用光掩模

图形尺寸校正装置及方法、光掩模以及试验用光掩模

摘要

以第一算出装置(12),基于与眩光产生图形的开口率之间的关系,分别计算出使用试验用光掩模(11)而转印的各评价用图形的各转印图形的宽度值,以第二算出装置(13)将计算出的各转印图形的宽度值的分布进行线性近似,计算出其倾斜度。进一步,基于定义了各转印图形的宽度值的倾斜度(尺寸变化量),以校正装置(14)按每个图形改变校正量。由此,能够更加准确的计算出局部眩光造成的尺寸变化量,能够高精度的进行相对于局部眩光的图形尺寸校正。

著录项

  • 公开/公告号CN100594424C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2010-03-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士通微电子株式会社;

    申请/专利号CN200480001762.8

  • 申请日2004-05-26

  • 分类号G03F1/08(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构72003 隆天国际知识产权代理有限公司;

  • 代理人高龙鑫;王玉双

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-11-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/08 变更前: 变更后: 申请日:20040526

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-11-10

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 1/08 变更前: 变更后: 申请日:20040526

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-03-17

    授权

    授权

  • 2008-12-10

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20081107 申请日:20040526

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

  • 2006-03-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-01-18

    公开

    公开

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