法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-02-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B22F 9/22 授权公告日:20100113 终止日期:20151227 申请日:20071227
专利权的终止
2010-01-13
授权
授权
2008-09-03
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-07-09
公开
公开
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法