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无外部电压偏置的水溶液中的选择性无电电化学电原子层沉积

摘要

提供了一种进行无电电化学原子层沉积的方法,并且其包括:提供包括暴露的上金属层的衬底;将所述衬底暴露于第一前体溶液中以经由欠电位沉积在所述暴露的上金属层上产生牺牲金属单层,其中所述第一前体溶液是包含还原剂的水溶液;在形成所述牺牲金属单层之后,漂洗所述衬底;在漂洗所述衬底之后,将所述衬底暴露于第二前体溶液中,以用第一沉积层置换所述牺牲金属单层,以及在用所述第一沉积层置换所述牺牲金属单层之后,漂洗所述衬底。将所述衬底暴露于所述第一前体溶液和将所述衬底暴露于所述第二前体溶液是无电工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN111032911B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023.03.14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朗姆研究公司;

    申请/专利号CN201880053047.0

  • 申请日2018.08.07

  • 分类号C23C18/54;C23C18/52;

  • 代理机构上海胜康律师事务所;

  • 代理人樊英如;邱晓敏

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-04-06 21:55:11

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