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一种工艺波动影响的分析方法及系统

摘要

本发明实施例公开了一种工艺波动影响的分析方法,包括:确定标称尺寸时目标物理量针对尺寸参数的敏感度近似模型;通过所述敏感度近似模型,获得目标物理量相对于尺寸参数的随机分布特性。这种方法通过敏感度近似模型体现工艺波动中几何随机性带来的物理量的影响,计算量小,且能保证一定的分析精度。

著录项

  • 公开/公告号CN109933826B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023.01.24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN201711365113.1

  • 申请日2017.12.18

  • 分类号G06F30/20;

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人党丽;王宝筠

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号中国科学院微电子研究所

  • 入库时间 2023-02-08 22:25:56

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