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基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法

摘要

本发明公开了一种基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法,包含:将起始分子砌块作为第一个反应物,根据第一个反应物得到最佳合成模板;根据第一个反应物和最佳合成模板得到第二个反应物;根据第一反应物、第二个反应物和最佳合成模板得到第一评分值;根据第一反应物、第二个反应物和最佳合成模板得到迭代分子结构;根据迭代分子结构得到第二评分结果和是否停止操作的done标志;根据迭代分子结构进行反向传播进行参数迭代更新。本发明的基于分子砌块合成规划技术的小分子从头设计方法,采用边计算分子砌块合成路径边采样活性分子空间的de novo方法,可实现高效计算高活性分子,并提供基于分子砌块的分子合成路径。

著录项

  • 公开/公告号CN115240788B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023.01.06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州生奥信息技术有限公司;

    申请/专利号CN202211137435.1

  • 发明设计人 居斌;姜菁;梅琪;

    申请日2022.09.19

  • 分类号G16C20/50;G16C20/10;

  • 代理机构杭州裕阳联合专利代理有限公司;

  • 代理人金方玮

  • 地址 310000 浙江省杭州市临平区东湖街道临平大道502号1幢3楼322室

  • 入库时间 2023-01-12 18:57:00

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