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温度调整方法、热处理设备以及半导体器件的制造方法

摘要

热处理设备中的温度调整方法,该热处理设备具有对处理衬底的处理室内进行加热的加热装置、控制该加热装置的加热控制部、配置在上述处理室内的靠近上述衬底的位置的第一温度检测装置、以及配置在比该第一温度检测装置更靠近上述加热装置的位置的第二温度检测装置,上述温度调整方法包括:第一步骤,进行积分运算、微分运算和比例运算来控制上述加热装置,以使上述第一温度检测装置的检测温度为预定的目标温度;第二步骤,根据在上述第一步骤的上述加热装置的控制中由上述第一温度检测装置检测的检测温度,将用于控制上述加热装置的第一操作量模式化,求出第一输出控制模式;第三步骤,根据上述第一输出控制模式控制上述加热装置;以及第四步骤,根据在上述第三步骤的上述加热装置的控制中由上述第二温度检测装置检测的检测温度,将用于控制上述加热装置的第二操作量的至少一部分模式化,求出第二输出控制模式。

著录项

  • 公开/公告号CN100576127C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-12-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立国际电气;

    申请/专利号CN200580034896.4

  • 发明设计人 杉下雅士;上野正昭;

    申请日2005-11-28

  • 分类号G05D23/00(20060101);G05B13/02(20060101);H01L21/22(20060101);H01L21/31(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人季向冈

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-21

    专利权的转移 IPC(主分类):G05D 23/00 登记生效日:20181130 变更前: 变更后: 申请日:20051128

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-12-30

    授权

    授权

  • 2009-12-30

    授权

    授权

  • 2007-11-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-11-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-09-19

    公开

    公开

  • 2007-09-19

    公开

    公开

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