避免射频等离子加工中的不稳定性的方法和装置

摘要

用于控制电源(30)的方法和装置，以避免运行在频率为1MHz及以上的RF等离子体加工系统中的动态负载导致的不稳定，该方法和装置使用前馈型控制环(53)来紧密地调节供给到诸如由可变且不定的等离子体阻抗导致的负载之类的动态电负载(40)上的功率。也可将反馈环(33)结合前馈环(53)，但处于较低速率，来帮助调节提供到负载(40)上的功率的量。