抗反射层的形成方法及其用于制造双镶嵌结构的方法

摘要

一种抗反射层的形成方法，包括：提供一半导体基底；向所述半导体基底喷出抗反射材料，并使所述半导体基底以第一速率旋转；使所述半导体基底以大于所述第一速率的第二速率旋转；使所述半导体基底以小于所述第二速率的第三速率旋转；使所述半导体基底以大于所述第三速率且小于第二速率的第四速率旋转；停止向所述半导体基底喷出抗反射材料；使所述半导体基底以大于所述第四速率且小于第二速率的第五速率旋转。本发明方法形成的抗反射层的表面具有较好的平坦度。