垂直腔面发射激光器制备方法及垂直腔面发射激光器

摘要

本发明公开了一种垂直腔面发射激光器制备方法，包括：对柱状主动区平台进行氧化处理以形成氧化孔的步骤，具体如下：第一次湿法氧化，在柱状主动区平台内的氧化限制层中间形成孔径尺寸大于目标孔径尺寸的第一氧化孔，然后去除氧化限制层最外圈的一圈氧化铝；第二次湿法氧化，在柱状主动区平台内的氧化限制层中间形成孔径尺寸小于第一氧化孔但大于目标孔径尺寸的第二氧化孔，然后去除氧化限制层最外圈的一圈氧化铝；依此类推，直到第N次湿法氧化后，形成孔径尺寸等于目标孔径尺寸的氧化孔，N为大于等于2的整数。本发明还公开了一种垂直腔面发射激光器。本发明可消除氧化限制层在氧化过程中出现开裂或者鼓裂的现象，从而有效提高器件可靠性。